光刻胶界,冲出一匹黑马!
光刻胶,被称为半导体材料“皇冠上的明珠”,在芯片制造中甚至与光刻机齐名,可见其特殊地位。
按照曝光波长的不同,半导体光刻胶可以分为G线、I线、KrF、ArF和EUV五大类,生产难度依次升高,适用的芯片也越来越先进,并且各大类下属又包含众多小类。
正因为其配方复杂,种类繁多,原材料供应受限,全球光刻胶市场呈现海外厂商高度垄断的格局。现如今,我国正处于光刻胶国产替代的关键阶段。
国产光刻胶企业,百花齐放!<
光刻胶界,冲出一匹黑马!
光刻胶,被称为半导体材料“皇冠上的明珠”,在芯片制造中甚至与光刻机齐名,可见其特殊地位。
按照曝光波长的不同,半导体光刻胶可以分为G线、I线、KrF、ArF和EUV五大类,生产难度依次升高,适用的芯片也越来越先进,并且各大类下属又包含众多小类。
正因为其配方复杂,种类繁多,原材料供应受限,全球光刻胶市场呈现海外厂商高度垄断的格局。现如今,我国正处于光刻胶国产替代的关键阶段。
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